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靶材溅射过程(靶材)

应辰睿
导读 大家好,小思来为大家解答以上的问题。靶材溅射过程,靶材这个很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!1、靶材就是高速荷能粒子轰击的目标

大家好,小思来为大家解答以上的问题。靶材溅射过程,靶材这个很多人还不知道,现在让我们一起来看看吧!

1、靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,通过更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

2、目前,(纯度)溅射靶材按照化学成分不同可分为:1)金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等)。

3、2)合金靶材(镍铬合金、镍钴合等)。

4、3)陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。

5、按开关不同可分为:长靶、方靶、圆靶。

6、按应用领域不同可分为:半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、具改性靶材、电子器件靶材、其他靶材。

7、金属靶材的铝、钛、铜、钽,在半导体晶圆制造中,200mm( 8寸)及以下晶圆制造通常以铝制程为主,使用的靶材以铝、钛元素为主。

8、300mm( 12寸)晶圆制造,多使用先进的铜互连技术,主要使用铜、钽靶材。

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